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半导体硅基工艺设备
化合物半导体工艺设备
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产品介绍
青岛赛尔深耕该领域 16 年,在核心性能、安全合规、稳定可靠三大维度形成核心优势,为晶圆制造提供高效精准的国产化装备方案。
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半导体硅基工艺设备
化合物半导体工艺设备
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先进封装工艺设备
配件耗材
6英寸化合物立式常压设备
适用工艺:OX、Drive in、Anneal(N2/NH)、Alloy (NH)、PIQ、增密、烧碳膜、制碳膜等
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6英寸化合物立式LPCVD设备
适用LPCVD工艺: TEOS、POLY、DPOLY、Nitride、HTO等
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6英寸化合物LPCVD卧式炉设备(水平炉)
适用工艺: TEOS、POLY、DPOLY、Nitride、HTO、BPSG、LTO、PSG等
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6英寸化合物常压卧式扩散炉(水平炉)
适用常压工艺:OX、Drive in、Anneal(N2/NH)、Alloy (NH)、PIQ、烧碳膜、制碳膜、增密等工艺
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