6英寸氧化/扩散/退火卧式扩散炉（水平炉）

适用常压工艺：OX、Drive in、Anneal(N2/NH)、Alloy (NH)、POCL3、磷预扩、磷再扩、硼预扩、硼再扩、PIQ等。

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倒片机

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常压低压兼容PI固化炉

基于 “常压成熟稳定、低压高效高质” 的双模特性，全面覆盖半导体 PI 固化的全流程场景，尤其适配青岛赛尔炉管的工艺协同性。

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6英寸化合物LPCVD卧式炉设备（水平炉）

适用工艺: TEOS、POLY、DPOLY、Nitride、HTO、BPSG、LTO、PSG等

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