6英寸化合物立式常压设备

➊适用晶圆尺寸：6 英寸，厚度范围为 350μm - 700μm。

➋工艺温度：工作温度区间为 800℃ - 1200℃，可根据具体工艺要求在该范围内精确设定。

➌控温精度：设备具备高精度的温度控制系统，控温精度可达≤±0.5℃，确保在整个工艺过程中温度稳定，为氧化层的均匀生长提供保障。

➍稳定工作时间：在 24 小时连续运行过程中，温度波动≤±0.5℃/24h，保证了长时间生产的稳定性和一致性。

➎做片量≥150片 / batch。

➏手动置取Cassette 。

➐支持EAP,MES等系统上线。