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青岛赛尔深耕该领域 16 年,在核心性能、安全合规、稳定可靠三大维度形成核心优势,为晶圆制造提供高效精准的国产化装备方案。

  • 8寸LPCVD低压化学气相淀积炉

8寸LPCVD低压化学气相淀积炉

在低气压环境下通过化学反应在硅片表面沉积氮化硅(Si₃N₄)薄膜的技术,此技术旨在提升薄膜均匀性、致密度和台阶覆盖能力。

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