6英寸化合物立式LPCVD设备
适用LPCVD工艺: TEOS、POLY、DPOLY、Nitride、HTO等
青岛赛尔深耕该领域 16 年，在核心性能、安全合规、稳定可靠三大维度形成核心优势，为晶圆制造提供高效精准的国产化装备方案。
Product Introduction
6英寸化合物立式LPCVD设备
➊适用晶圆尺寸：6 英寸，厚度范围为 350μm - 700μm。
➋工艺温度：工作温度区间为 300℃ - 900℃，可根据具体工艺要求在该范围内精确设定。
➌控温精度：设备具备高精度的温度控制系统，控温精度可达≤±0.5℃，确保在整个工艺过程中温度稳定，为氧化层的均匀生长提供保障。
➍稳定工作时间：在 24 小时连续运行过程中，温度波动≤±0.5℃/24h，保证了长时间生产的稳定性和一致性。
➎做片量≥150片 / batch。
➏手动置取Cassette 。
➐支持EAP,MES等系统上线。
Product Introduction
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